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Épaisseur Uniformité du dépôt

Introduction

Le revêtement de pulvérisation cathodique magnétron est largement appliqué dans le dépôt de grande surface, et l'uniformité de l'épaisseur du film mince, le rapport de dépôt, le taux d'utilisation du matériau cible et d'autres problèmes dans l'industrie du revêtement font l'objet d'une grande attention.

 

Qu'il s'agisse de recouvrir une puce semi-conductrice d'un film mince protecteur ou d'appliquer un revêtement antireflet sur un verre de lunettes, les ingénieurs de procédé doivent atteindre certaines spécifications d'épaisseur pour répondre aux exigences de performance. L'uniformité de l'épaisseur est tout aussi importante que l'épaisseur du film lui-même.

Aramid Paper

Facteurs qui déterminent les performances de dépôt

Le dépôt, un processus utilisé pour déposer de fines couches de matériau (ou film) sur un substrat, est une pratique courante dans des industries telles que les semi-conducteurs et la nanotechnologie. Le dépôt de couches minces peut être réalisé avec une variété de technologies qui peuvent fournir des films allant des isolants aux semi-conducteurs en passant par les métaux. Les films peuvent remplir des rôles tout aussi divers qui vont des diélectriques intercouches aux interconnexions.

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Souplesse

La flexibilité, la gamme de capacités dont dispose un système, peut être un facteur important dans la prise de décision sur le type de système de dépôt à acquérir. Cela est plus vrai pour les environnements de R&D que pour les applications industrielles où des solutions spécifiques sont souvent privilégiées. Comprendre les matériaux qui peuvent être déposés, les tailles de substrat, les plages de température, le flux ionique, les taux de dépôt, les fréquences, le point final et le régime de fonctionnement sous pression ne sont que quelques-unes des considérations. La flexibilité est aussi une qualité du système qui permet de se projeter dans l'avenir. Dans la R&D, les priorités changent et il est utile d'avoir un système capable de gérer ces changements. Le budget vient s'ajouter à ces considérations. Selon le type d'options technologiques, les prix des systèmes peuvent varier considérablement.

Rapport de test pour le modèle de coucheuse VPI :SD-900M

Image du côté gauche

Température de processus

Les propriétés du film sont fortement influencées par la température du procédé. Cependant, l'application peut imposer des limites à la température qui peut être utilisée. Par exemple, l'intérêt récent pour l'électronique flexible qui utilise souvent des substrats polymères est limité par le point de fusion ou la température de refusion de ces polymères. Certains semi-conducteurs composés sont limités par des contacts ohmiques qui se dégradent à des températures plus élevées. Les différentes technologies de dépôt fonctionnent mieux dans des plages de température limitées.

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