よくある質問

Magnetron sputtering is a plasma-assisted physical-vapor-deposition (PVD) technique in which energetic ions bombard a solid target, ejecting atoms or molecules that subsequently condense on a substrate to form a film. The resulting coatings are dense and adhere strongly, making the process particularly suitable for refractory metals, alloys, and compound materials. Precise control of film thickness allows the method to meet the stringent density and uniformity requirements of optical and electronic functional layers. Because of its outstanding film quality and controllability, magnetron sputtering has become a key fabrication route for high-performance coatings—such as optical dielectrics and transparent conductors—in photonics and materials-science research.

🌟 Happy Labor Day! A tribute to every dedicated professional on the front lines of research. May every experiment you conduct lead to breakthroughs!

Battery Storage Industry Trend: Composite Films & Density Engineering
The ongoing “battery revolution” in lithium ion, solid state, sodium ion and other chemistries is driven by the relentless pursuit of higher energy density, longer cycle life and enhanced safety. Achieving these goals hinges on the development of novel materials, where high quality thin film electrodes and functional coatings play a pivotal role.
• Composite thin films built on electrode surfaces can stabilise interfaces and suppress side reactions, thereby extending service life.
• Researchers are likewise optimising material density: introducing nanoporous structures or lightweight phases to lower overall electrode mass while preserving active material efficacy. This strategy promises a higher specific energy (Wh kg⁻¹) — critical for portable and aerospace applications — yet it also poses challenges such as diminished film strength or adhesion, demanding advanced deposition technology to balance weight with structural integrity.

Customized vacuum coating solutions successfully overcome adhesion issues, film oxidation discoloration, and thickness non-uniformity in thick film preparation

真空コーティングと材料科学機器を専門とする大手ハイテク企業である Vision Precision Instruments (VPI) は、SD-650 シリーズの高真空マグネトロンスパッタリング システムを導入し、先進的なエネルギー材料の研究開発に大きな推進力を与えています。

マグネトロン スパッタリングと熱蒸発は、どちらも薄膜コーティングに広く使用されている物理蒸着 (PVD) 技術です。どちらの方法も似たような材料 (スパッタリング用のカーボン ターゲットや蒸発用のカーボン ロッドなど) をコーティングできますが、半導体や光学用途ではそれぞれ独自の強みがあります。ここでは、Vision Precision Instruments の VPI SD-650MH マグネトロン スパッタ コーターと SD-100AF 高真空熱蒸発装置を使用して、これら 2 つの技術を比較し、特定の要件に最適なアプローチを決定できるようにします。

電子顕微鏡 (EM) は、マイクロ/ナノ構造を調査するための重要なツールです。さまざまなタイプの電子顕微鏡でサンプルの高解像度で鮮明な画像を確保するには、サンプル表面に導電性薄膜を準備する必要があります。薄膜のターゲット材料の選択と準備は、画像の品質に直接影響します。したがって、さまざまな材料 (ターゲット) の特性と適切な用途を理解することが不可欠です。

高真空スパッタリングコーティング装置（VPI 650MHシリーズスパッタリングコーター）では、ガスフローの制御がスパッタリングプロセスの安定性にとって重要です。一般的なガスフロー制御装置には、電磁フローバルブ（Em）とマスフローコントローラー（MFC）があります。これらは動作原理とアプリケーションシナリオが異なりますが、どのように選択すればよいでしょうか？

旧正月おめでとうございます！VPI は蛇年の新たな章の始まりを皆さんと一緒に迎えます！🎉🐍

皆様のご信頼とご支援に感謝申し上げます。私たちも手を携えて、さらに輝かしい2025年に向けて歩んでいきましょう！

新年が近づく中、VPI は皆様の継続的なサポートと信頼に心から感謝の意を表すために、2025 年のカレンダーを特別にデザインしました。過去 20 年以上にわたり、高真空コーティング、サンプル準備、消耗品およびアクセサリ、カスタム調達サービスなど、皆様の信頼は常に当社の継続的な改善の原動力となってきました。

VPI の高真空マグネトロン シリーズ スパッタリング コーティング装置を使用するプロセスでは、スパッタリング ターゲットは高品質の薄膜を実現するために不可欠なコンポーネントです。ただし、スパッタリング プロセスの安定性と効率性を確保するには、通常、ターゲットにバッキング プレートを装備する必要があります。では、ターゲットにバッキング プレートが必要なのはなぜでしょうか。バッキング プレートはスパッタリング中にどのような役割を果たすのでしょうか。VPI のエンジニア Li が簡単な技術的説明を行います。

VPIシリーズコーターの膜厚推定

現代の工業製造業では、薄膜技術は半導体、光学機器、装飾コーティングなどの分野で広く使用されています。薄膜の厚さは製品の性能と品質に直接影響します。そのため、コーティングプロセス中の膜厚のリアルタイム監視は非常に重要です。VPIのR＆Dエンジニアは、650MH高真空マグネトロンスパッタリングコーティングマシンと900Mサンプル準備コーティングマシンのアプリケーションに焦点を当て、コーティング装置に膜厚モニターを装備する必要がある理由を紹介し、その動作原理を説明します。

材料科学および工学の分野では、薄膜の準備は重要なステップです。製品の性能と品質を確保するには、薄膜の厚さを正確に制御することが不可欠です。この記事では、サンプルの準備にコーティング機を使用する場合の膜厚の推定方法と具体的な計算ロジックを紹介し、研究者やエンジニアが実験の効率と結果の信頼性を向上させるのに役立ちます。

最近、Vision Precision Instruments は、長春理工大学化学工学部向けに高真空マグネトロン デュアルターゲット スパッタリングコーター (SD-650MHT) を設置および展開する機会に恵まれました。当社は、長春理工大学の材料科学研究に貢献できることを光栄に思っています。

スパッタリング速度は、フィルムの品質、厚さの均一性、性能に影響を与える重要なパラメータであり、ターゲットの種類、真空度、動作ガス圧、電源、磁場強度など、多くの要因の影響を受けます。これらの要因がスパッタリング速度に与える影響を十分に理解することは、プロセスパラメータを最適化し、フィルムの品質を向上させるために非常に重要です。

現代の材料科学とナノテクノロジーの分野では、薄膜のサンプル調製技術が重要な研究テーマとなっています。これらの薄膜材料は、電子デバイス、光学デバイス、バイオセンサー、触媒などの分野で広く使用されています。さまざまな用途で優れた特性を持つフィルムを得るには、適切なターゲット材料を選択し、高性能のコーティング装置を使用することが不可欠です。この記事では、VPIのSD-900Mモデルコーターでの金（Au）、銀（Ag）、白金（Pt）、金パラジウム（Au / Pd）ターゲットの適用と、サンプル調製におけるそれらの違いについて詳しく説明します。

SD-650MHTスパッタリングコーティング機は、高度な機械設計と精密な制御システムを採用し、極めて高い真空レベルと安定したガス制御機能を備えています。そのコアコンポーネントには、回転真空ポンプとターボ分子ポンプの組み合わせが含まれており、5×10^-5Paの到達真空を迅速に達成できるため、コーティングプロセス中に高い効率と安定性を確保できます。さらに、この装置には直径260mm、高さ200mmの金属チャンバーが装備されており、より大きなサンプルサイズが可能で、さまざまな実験ニーズに対応できます。

本日、当社は、新しいカソードルミネッセンス装置の発売を発表できることを誇りに思います。これは、宝石や鉱物などの固体材料の特性評価専用に設計された精密装置であり、材料科学の分野にさらに多くのソリューションをもたらすことを目指しています。