よくある質問

Magnetron sputtering and thermal evaporation are both widely used physical vapor deposition (PVD) techniques for thin-film coating. Although both methods can coat similar materials (such as carbon targets for sputtering and carbon rods for evaporation), each has unique strengths in semiconductor and optical applications. Here, we compare these two techniques using Vision Precision Instruments’ VPI SD-650MH magnetron sputter coater and SD-100AF high-vacuum thermal evaporator to help you determine the best approach for your specific requirements.

Electron microscopes (EM) are crucial tools for exploring micro/nano structures. To ensure high-resolution and clear images of samples under various types of electron microscopes, conductive thin films must be prepared on the sample surface. The choice and preparation of the target materials for the film directly affect imaging quality. Therefore, understanding the characteristics and suitable applications of different materials (targets) is essential.

In high vacuum sputtering coating equipment (VPI 650MH series sputtering coater), controlling gas flow is crucial for the stability of the sputtering process. Common gas flow control devices include Electromagnetic Flow Valve (Em) and Mass Flow Controller (MFC). They have different working principles and application scenarios, so how should you choose?

Happy Chinese New Year! VPI joins you in ushering in a new chapter for the Year of the Snake! 🎉🐍

Thank you for your trust and support. Let us join hands and march toward an even more brilliant 2025!

As the new year approaches, VPI has specially designed a 2025 calendar to express our heartfelt gratitude for your continued support and trust. Over the past 20+ years, whether in high-vacuum coating, sample preparation, consumables and accessories, or custom procurement services, your confidence has always been our driving force for continuous improvement.

In the process of using VPI's high-vacuum magnetron series sputtering coating instruments, sputtering targets are essential components for achieving high-quality thin films. However, to ensure the stability and efficiency of the sputtering process, targets usually need to be equipped with backing plates. So, why do targets need backing plates? What role do backing plates play during sputtering? Engineer Li from VPI will provide a brief technical explanation.

VPIシリーズコーターの膜厚推定

現代の工業製造業では、薄膜技術は半導体、光学機器、装飾コーティングなどの分野で広く使用されています。薄膜の厚さは製品の性能と品質に直接影響します。そのため、コーティングプロセス中の膜厚のリアルタイム監視は非常に重要です。VPIのR＆Dエンジニアは、650MH高真空マグネトロンスパッタリングコーティングマシンと900Mサンプル準備コーティングマシンのアプリケーションに焦点を当て、コーティング装置に膜厚モニターを装備する必要がある理由を紹介し、その動作原理を説明します。

材料科学および工学の分野では、薄膜の準備は重要なステップです。製品の性能と品質を確保するには、薄膜の厚さを正確に制御することが不可欠です。この記事では、サンプルの準備にコーティング機を使用する場合の膜厚の推定方法と具体的な計算ロジックを紹介し、研究者やエンジニアが実験の効率と結果の信頼性を向上させるのに役立ちます。

最近、Vision Precision Instruments は、長春理工大学化学工学部向けに高真空マグネトロン デュアルターゲット スパッタリングコーター (SD-650MHT) を設置および展開する機会に恵まれました。当社は、長春理工大学の材料科学研究に貢献できることを光栄に思っています。

スパッタリング速度は、フィルムの品質、厚さの均一性、性能に影響を与える重要なパラメータであり、ターゲットの種類、真空度、動作ガス圧、電源、磁場強度など、多くの要因の影響を受けます。これらの要因がスパッタリング速度に与える影響を十分に理解することは、プロセスパラメータを最適化し、フィルムの品質を向上させるために非常に重要です。

現代の材料科学とナノテクノロジーの分野では、薄膜のサンプル調製技術が重要な研究テーマとなっています。これらの薄膜材料は、電子デバイス、光学デバイス、バイオセンサー、触媒などの分野で広く使用されています。さまざまな用途で優れた特性を持つフィルムを得るには、適切なターゲット材料を選択し、高性能のコーティング装置を使用することが不可欠です。この記事では、VPIのSD-900Mモデルコーターでの金（Au）、銀（Ag）、白金（Pt）、金パラジウム（Au / Pd）ターゲットの適用と、サンプル調製におけるそれらの違いについて詳しく説明します。

SD-650MHTスパッタリングコーティング機は、高度な機械設計と精密な制御システムを採用し、極めて高い真空レベルと安定したガス制御機能を備えています。そのコアコンポーネントには、回転真空ポンプとターボ分子ポンプの組み合わせが含まれており、5×10^-5Paの到達真空を迅速に達成できるため、コーティングプロセス中に高い効率と安定性を確保できます。さらに、この装置には直径260mm、高さ200mmの金属チャンバーが装備されており、より大きなサンプルサイズが可能で、さまざまな実験ニーズに対応できます。

本日、当社は、新しいカソードルミネッセンス装置の発売を発表できることを誇りに思います。これは、宝石や鉱物などの固体材料の特性評価専用に設計された精密装置であり、材料科学の分野にさらに多くのソリューションをもたらすことを目指しています。

龍年のご多幸をお祈りします！すべてがあなたの望みどおりに進み、心の平穏と健康が保たれますように！

あけましておめでとう！！

VPI中国よりメリークリスマス

VPIの新発売モデルの紹介: SD-PD260A パーティクルディスペンサー

月曜日、マレーシアとシンガポールで最大の分析機器サービスプロバイダーの1つであるNOVATIQ SCIENTIFICのCEOであるIvan氏とNovatiq Scientificの事業部長であるCharles氏がVPIを訪問し、両者は深いパートナーシップを強化しました。この訪問により、両者の多様な協力の方向性が確認され、将来の協力に向けてよりスムーズな道が開かれました。