ティンティンZ
Mar 4, 2023
材料科学の分野では、材料の微細構造と形態学的特徴を理解することが極めて重要です。顕微鏡はこの点で重要な役割を果たしており、技術の進歩に伴い、さまざまな種類の顕微鏡が開発されてきました。その中でも、走査型電子顕微鏡 (SEM)、透過型電子顕微鏡 (TEM)、および電界放出走査型電子顕微鏡 (FESEM) は、最も広く使用されている技術です。これらの技術には類似点がありますが、動作原理、解像度、およびサンプル準備要件が異なります。この論文では、これらの技術、その原理、およびアプリケーションの包括的な概要を提供することを目的としています。
SEM、TEM、FESEM の違いは何ですか?
材料科学の分野では、材料の微細構造と形態学的特徴を理解することが極めて重要です。顕微鏡はこの点で重要な役割を果たしており、技術の進歩に伴い、さまざまな種類の顕微鏡が開発されてきました。その中でも、走査型電子顕微鏡 (SEM)、透過型電子顕微鏡 (TEM)、および電界放出走査型電子顕微鏡 (FESEM) は、最も広く使用されている技術です。これらの技術には類似点がありますが、動作原理、解像度、およびサンプル準備要件が異なります。この論文では、これらの技術、その原理、およびアプリケーションの包括的な概要を提供することを目的としています。
走査型電子顕微鏡(SEM)
走査型電子顕微鏡 (SEM) は、材料の表面を画像化するために広く使用されている技術です。SEM は、サンプルの表面上で集束した電子ビームを走査し、サンプルから放出された二次電子を検出することによって機能します。二次電子は検出器によって検出され、信号が画像に変換されます。SEM は非破壊画像化技術であり、金属、セラミック、ポリマー、生物材料など、さまざまな材料の表面の高解像度画像を提供できます。
SEM は高真空状態で動作し、サンプルは導電性であるか、金や炭素などの導電性材料でコーティングされている必要があります。SEM で使用される電子ビームは、通常 5 ~ 30 keV の高エネルギーであるため、サンプルのより深いところまで浸透できます。SEM の解像度は、電子ビームのエネルギー、電子スポットのサイズ、サンプルと検出器の距離など、いくつかの要因によって異なります。SEM の一般的な解像度は、数ナノメートルから数十ナノメートルの範囲です。
SEM によって生成される画像からは、サンプルの表面形態、地形、組成に関する情報が得られます。画像化に加えて、SEM はエネルギー分散型 X 線分光法 (EDS) または波長分散型 X 線分光法 (WDS) を使用した元素分析にも使用できます。EDS と WDS は、サンプルに高エネルギー電子ビームを照射したときに放出される X 線を測定することで、サンプルの元素組成を決定するために使用される技術です。
透過型電子顕微鏡(TEM)
透過型電子顕微鏡 (TEM) は、高解像度で材料の微細構造を画像化する強力な技術です。TEM は、集束した電子ビームを薄いサンプルに透過させ、サンプルを通過した電子を検出することで機能します。サンプルを通過した電子は蛍光スクリーンまたは検出器に集束され、画像が生成されます。
TEM は高真空状態で動作し、サンプルは電子が通過できるほど薄くする必要があります。TEM のサンプルの準備には、イオンミリング、化学エッチング、機械研磨などの技術を使用して、サンプルを数ナノメートルの厚さまで薄くする必要があります。TEM は、金属、セラミック、ポリマー、生物材料など、さまざまな材料の微細構造の高解像度画像を提供できます。
TEM の解像度は、ビームに使用される電子の波長によって決まります。電子の波長は可視光の波長よりもはるかに短いため、はるかに高い解像度の画像化が可能になります。TEM の一般的な解像度は、数十分の 1 ナノメートルから数ナノメートルの範囲です。
TEM によって生成される画像からは、サンプルの微細構造、結晶構造、欠陥に関する情報が得られます。画像化に加えて、TEM はエネルギー分散型 X 線分光法 (EDS) または電子エネルギー損失分光法 (EELS) を使用した元素分析にも使用できます。EDS と EELS は、サンプルに高エネルギー電子ビームを照射したときに放出される X 線または電子を測定することで、サンプルの元素組成を決定するために使用される技術です。
電界放出走査電子顕微鏡 (FESEM)
電界放出走査電子顕微鏡 (FESEM) は、従来の SEM よりも高解像度の画像を提供する SEM の一種です。FESEM は、電子ビームをサンプル表面の小さな領域に集中させ、サンプルから放出される二次電子を検出することで機能します。二次電子は検出器によって検出され、信号が画像に変換されます。FESEM は高真空状態で動作し、サンプルは導電性であるか、金や炭素などの導電性材料でコーティングされている必要があります。
FESEM は電界放出電子源を使用しており、非常に小さな電子スポット サイズを持つ高強度電子ビームを生成します。これにより、従来の SEM よりも高解像度の画像化が可能になります。FESEM の一般的な解像度は、数ナノメートルから数十ナノメートルの範囲です。
FESEM によって生成される画像からは、サンプルの表面形態、地形、組成に関する情報が得られます。画像化に加えて、FESEM は SEM と同様に、エネルギー分散型 X 線分光法 (EDS) または波長分散型 X 線分光法 (WDS) を使用して元素分析にも使用できます。
SEM、TEM、FESEM の違い
SEM、TEM、FESEM にはいくつかの類似点がありますが、動作原理、解像度、サンプル準備要件が異なります。SEM はさまざまな材料の表面の高解像度画像を提供し、TEM は材料の微細構造の高解像度画像を提供します。FESEM は従来の SEM よりも高解像度の画像を提供しますが、微細構造の画像よりも表面の画像に重点を置いています。SEM と FESEM の解像度は通常、数ナノメートルから数十ナノメートルの範囲ですが、TEM は数十分の 1 ナノメートルから数ナノメートルの範囲の高解像度の画像を提供します。
サンプルの準備要件も、技術によって異なります。SEM と FESEM では導電性またはコーティングされたサンプルが必要ですが、TEM では電子が通過できる薄いサンプルが必要です。SEM と FESEM のサンプル準備は、サンプルを数ナノメートルの厚さに薄くするなど、より大規模なサンプル準備が必要な TEM よりも、一般的に時間がかかりません。
SEM、TEM、FESEMの応用
SEM、TEM、FESEM の用途は幅広く多様で、材料科学、生物学、化学、物理学など、幅広い分野に及びます。SEM は、金属、セラミック、ポリマー、生物材料などの材料の表面イメージングによく使用されます。また、EDS または WDS を使用した元素分析にも使用されます。SEM は、冶金学、半導体産業、法医学など、さまざまな分野で使用されています。
TEM は、金属、セラミック、ポリマー、生物材料などの材料の微細構造の高解像度画像化に使用されます。また、EDS または EELS を使用した元素分析にも使用されます。TEM は、材料科学、凝縮物質物理学、生物学で広く使用されています。
FESEM は、金属、セラミック、ポリマー、生物材料などの材料の高解像度表面イメージングに使用されます。また、EDS または WDS を使用した元素分析にも使用されます。FESEM は、材料科学、半導体産業、ナノテクノロジーでよく使用されます。
結論
結論として、SEM、TEM、FESEM は、材料の微細構造と形態を画像化する強力な技術です。各技術にはそれぞれ利点と限界があり、技術の選択は特定の用途と必要な情報によって異なります。技術の進歩に伴い、これらの技術は進化を続け、さらに高解像度の画像化とより高度な分析機能を提供しています。