Часто задаваемые вопросы

Application Case – Battery Materials Laboratory
VPI SD-900M Magnetron Sputter Coater (Sample Preparation)

Magnetron sputtering is a plasma-assisted physical-vapor-deposition (PVD) technique in which energetic ions bombard a solid target, ejecting atoms or molecules that subsequently condense on a substrate to form a film. The resulting coatings are dense and adhere strongly, making the process particularly suitable for refractory metals, alloys, and compound materials. Precise control of film thickness allows the method to meet the stringent density and uniformity requirements of optical and electronic functional layers. Because of its outstanding film quality and controllability, magnetron sputtering has become a key fabrication route for high-performance coatings—such as optical dielectrics and transparent conductors—in photonics and materials-science research.

🌟 Happy Labor Day! A tribute to every dedicated professional on the front lines of research. May every experiment you conduct lead to breakthroughs!

Battery Storage Industry Trend: Composite Films & Density Engineering
The ongoing “battery revolution” in lithium ion, solid state, sodium ion and other chemistries is driven by the relentless pursuit of higher energy density, longer cycle life and enhanced safety. Achieving these goals hinges on the development of novel materials, where high quality thin film electrodes and functional coatings play a pivotal role.
• Composite thin films built on electrode surfaces can stabilise interfaces and suppress side reactions, thereby extending service life.
• Researchers are likewise optimising material density: introducing nanoporous structures or lightweight phases to lower overall electrode mass while preserving active material efficacy. This strategy promises a higher specific energy (Wh kg⁻¹) — critical for portable and aerospace applications — yet it also poses challenges such as diminished film strength or adhesion, demanding advanced deposition technology to balance weight with structural integrity.

Customized vacuum coating solutions successfully overcome adhesion issues, film oxidation discoloration, and thickness non-uniformity in thick film preparation

Будучи ведущим высокотехнологичным предприятием, специализирующимся на оборудовании для вакуумных покрытий и материаловедения, компания Vision Precision Instruments (VPI) представила высоковакуумные магнетронные распылительные системы серии SD-650, придав мощный импульс исследованиям и разработкам передовых энергетических материалов.

Магнетронное распыление и термическое испарение являются широко используемыми методами физического осаждения из паровой фазы (PVD) для тонкопленочных покрытий. Хотя оба метода могут покрывать схожие материалы (например, углеродные мишени для распыления и углеродные стержни для испарения), каждый из них имеет уникальные сильные стороны в полупроводниковых и оптических приложениях. Здесь мы сравниваем эти два метода с использованием магнетронного распылительного устройства VPI SD-650MH и высоковакуумного термического испарителя SD-100AF от Vision Precision Instruments, чтобы помочь вам определить наилучший подход для ваших конкретных требований.

Электронные микроскопы (ЭМ) являются важнейшими инструментами для исследования микро/наноструктур. Для обеспечения высокого разрешения и четких изображений образцов под различными типами электронных микроскопов на поверхности образца должны быть подготовлены проводящие тонкие пленки. Выбор и подготовка целевых материалов для пленки напрямую влияют на качество изображения. Поэтому понимание характеристик и подходящих применений различных материалов (мишеней) имеет важное значение.

В высоковакуумном напылительном оборудовании (напылительная установка серии VPI 650MH) контроль потока газа имеет решающее значение для стабильности процесса напыления. Обычные устройства контроля потока газа включают электромагнитный клапан расхода (Em) и контроллер массового расхода (MFC). Они имеют разные принципы работы и сценарии применения, так как же выбрать?

Счастливого китайского Нового года! VPI присоединяется к вам, чтобы открыть новую главу Года Змеи! 🎉🐍

Спасибо за доверие и поддержку. Давайте возьмемся за руки и пойдем к еще более блестящему 2025 году!

С приближением нового года VPI специально разработала календарь на 2025 год, чтобы выразить нашу искреннюю благодарность за вашу постоянную поддержку и доверие. За последние 20 с лишним лет, будь то высоковакуумное покрытие, подготовка образцов, расходные материалы и принадлежности или услуги по индивидуальным закупкам, ваше доверие всегда было нашей движущей силой для постоянного совершенствования.

В процессе использования высоковакуумных магнетронных приборов для нанесения покрытий распылением VPI мишени распыления являются важнейшими компонентами для получения высококачественных тонких пленок. Однако для обеспечения стабильности и эффективности процесса распыления мишени обычно должны быть оснащены подложками. Итак, зачем мишеням нужны подложки? Какую роль играют подложки во время распыления? Инженер Ли из VPI даст краткое техническое объяснение.

Оценка толщины пленки для установки для нанесения покрытий серии VPI

В современном промышленном производстве тонкопленочная технология широко используется в полупроводниках, оптических устройствах, декоративных покрытиях и других областях. Толщина тонкой пленки напрямую влияет на производительность и качество продукта. Поэтому мониторинг толщины пленки в режиме реального времени в процессе нанесения покрытия имеет решающее значение. Инженеры отдела исследований и разработок VPI расскажут, почему оборудование для нанесения покрытий должно быть оснащено монитором толщины пленки, и объяснят принцип его работы, уделив особое внимание применению высоковакуумной магнетронной распылительной машины 650MH и машины для подготовки образцов 900M.

В области материаловедения и инженерии подготовка тонкой пленки является критически важным этапом. Точный контроль толщины тонкой пленки имеет важное значение для обеспечения производительности и качества продукта. В этой статье рассказывается о том, как оценить толщину пленки и конкретной логике расчета при использовании машины для нанесения покрытий для подготовки образцов, что помогает исследователям и инженерам повысить эффективность эксперимента и надежность результатов.

Недавно Vision Precision Instruments с радостью воспользовалась возможностью установить и внедрить высоковакуумный магнетронный двухцелевой распылительный коатер (SD-650MHT) для Школы химической инженерии Чанчуньского технологического университета. Для нас большая честь внести свой вклад в исследования в области материаловедения Чанчуньского технологического университета.

Являясь ключевым параметром, влияющим на качество, однородность толщины и производительность пленки, скорость распыления зависит от многих факторов, включая тип мишени, степень вакуума, давление рабочего газа, источник питания, напряженность магнитного поля и т. д. Глубокое понимание влияния этих факторов на скорость распыления имеет большое значение для оптимизации параметров процесса и улучшения качества пленки.

В области современного материаловедения и нанотехнологий технология подготовки образцов тонких пленок стала ключевой темой исследований. Эти тонкопленочные материалы широко используются в электронных устройствах, оптических устройствах, биосенсорах, катализаторах и других областях. Для получения пленок с превосходными свойствами в различных приложениях необходимо выбрать подходящий материал мишени и использовать высокопроизводительное оборудование для нанесения покрытий. В этой статье подробно описывается применение золотых (Au), серебряных (Ag), платиновых (Pt) и золотопалладиевых (Au/Pd) мишеней в коутерах модели SD-900M компании VPI и их различия в подготовке образцов.

Машина для распыления покрытий SD-650MHT использует передовую механическую конструкцию и точные системы управления, отличающиеся чрезвычайно высокими уровнями вакуума и стабильными возможностями управления газом. Ее основные компоненты включают комбинацию роторного вакуумного насоса и турбомолекулярного насоса, которые могут быстро достигать предельного вакуума 5×10^-5 Па, обеспечивая высокую эффективность и стабильность в процессе нанесения покрытия. Кроме того, прибор оснащен металлической камерой диаметром 260 мм и высотой 200 мм, что позволяет использовать образцы большего размера и удовлетворять различные экспериментальные потребности.